Liqui-Cel

MÉGASONS / ULTRASONS

Megasonic

Dossiers Techniques

TB 44: Precise Control of Dissolved O2 and N2
Precise Control of O2 and N2 gasses in Semiconductor wafer cleaning applications.

TB 34: Liqui-Cel® Membrane Contactors are used to Improve Performance of Megasonic Cleaning
Megasonic Cleaning challenges are solved with total gas control using Liqui-Cel® Contactors. Remove O2 from water while adding N2 to water.

TB 41: Activated Water for Improved Megasonic Cleaning
Improved megasonic wafer cleaning with activated water using hydrogen and Liqui-Cel® Contactors.

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L'irradiation mégasonique est un processus commun employé pour éliminer des particules, des métaux et des produits organiques des surfaces des semi-conducteurs et d'autres matériaux. Ce processus exige des bains d'eau où les wafers de semi-conducteur sont immergées. Des impulsions ultrasoniques sont émises dans l'eau pour déloger les agents contaminants. Si les bulles sont présentes sur le bain d'eau, le processus mégasonique est perturbé. Il a également été démontré que la présence d'un peu d'hydrogène ou d'azote dissous dans le bain est bénéfique au processus de nettoyage. Les contacteurs membranaires Liqui-Cel sont la solution idéale puisqu'ils permettent simultanément d’extraire l'oxygène et de dissoudre l'azote ou l'hydrogène dans l'eau. Les contacteurs Liqui-Cel diffusent le gaz à un niveau moléculaire de façon maitrisée de sorte qu'aucun bullage ne se produise. Les bulles auront également un impact négatif sur le processus de nettoyage : la diffusion moléculaire des gaz est donc très importante.